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텅스텐 타겟

제품 이름: 텅스텐 표적 크기:맞춤형 순도:≥99.95% 용도: 텅스텐 표적은 주로 항공우주, 희토류 제련, 전기 광원, 화학 장비, 의료 장비, 야금 기계, 제련 장비, 석유 및 기타 분야에서 사용됩니다. 물리적...

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텅스텐 타겟 소개

기본 세부 사항 :

텅스텐 타겟 다양한 첨단 기술 응용 분야, 특히 박막 증착 분야에서 활용되는 중요한 구성 요소입니다. 탁월한 내구성과 높은 융점으로 유명한 이 제품은 스퍼터링 공정에서 중요한 역할을 하며 기판에 정확하고 효율적인 재료 증착을 보장합니다.

제품 기준:

엄격한 품질 표준을 준수하여 균일성, 순도 및 구조적 무결성을 보장합니다. 이러한 표준에는 일반적으로 현대 제조 공정의 엄격한 요구 사항을 충족하기 위한 구성 요구 사항, 치수 사양 및 표면 마감 기준이 포함됩니다.

기본 매개 변수 :

특정 응용 분야 요구 사항에 맞게 다양한 구성으로 제공됩니다. 순도 수준, 입자 크기, 치수, 표면 형태와 같은 매개변수는 성능과 신뢰성을 향상시키기 위해 신중하게 최적화됩니다.

제품 속성 :

  • 탁월한 내구성: 뛰어난 기계적 강도와 열적, 화학적 열화에 대한 저항성을 갖추고 있어 열악한 작동 조건에서도 긴 서비스 수명을 보장합니다.

  • 고순도: 탁월한 순도 수준을 보여 오염을 최소화하고 증착 공정에서 우수한 필름 품질을 보장합니다.

  • 정확한 치수 제어: 정확한 치수 정확도로 제조되어 다양한 증착 시스템에 원활하게 통합되어 공정 효율성이 향상됩니다.

  • 다양한 호환성: 다양한 스퍼터링 기술 및 증착 방법과 호환되므로 다양한 응용 분야에 걸쳐 다양성을 제공합니다.

제품 기능 :

텅스텐 타겟 원자가 타겟 표면에서 방출되어 기판에 증착되어 원하는 특성을 갖는 박막을 형성하는 스퍼터링 공정에서 재료의 주요 소스 역할을 합니다. 이를 통해 다양한 산업 및 기술 응용 분야에 필수적인 고급 코팅 및 기능성 레이어를 제작할 수 있습니다.

특징:

  • 높은 용해점: 이는 금속 중에서 가장 큰 연화 초점 중 하나를 표시하여 고온 취급 조건에서 신뢰성과 흔들리지 않는 품질을 보장합니다.

  • 놀라운 따뜻한 전도성: 이는 뛰어난 온열 전도성을 갖고 있어 흔들리는 활동 중에 효과적인 강도 산란을 통해 따뜻한 압력을 제한하고 주기 제어를 개선합니다.

  • 맞춤형 세부정보: 다양한 부분과 디자인으로 접근할 수 있어 정확성과 적응성으로 명시적인 애플리케이션 요구 사항을 충족할 수 있는 사용자 정의가 가능합니다.

장점 및 하이라이트 :

  • 우수한 성능: 비교할 수 없는 성능과 신뢰성을 제공하므로 까다로운 박막 증착 응용 분야에서 선호되는 선택입니다.

  • 향상된 생산성: 높은 처리량의 처리와 일관된 필름 품질을 가능하게 하여 제조 작업의 생산성과 비용 효율성을 높이는 데 기여합니다.

  • 연장된 서비스 수명: 뛰어난 내구성과 내마모성은 서비스 수명을 연장하고 가동 중지 시간을 최소화하여 운영 효율성을 높이고 유지 관리 비용을 절감합니다.

응용 분야 :

텅스텐 타겟 반도체 제조, 태양전지 생산, 평면 패널 디스플레이 제조, 광학 코팅, 자기 저장 매체 등 다양한 산업 전반에 걸쳐 널리 사용됩니다.

OEM 서비스 :

우리는 포괄적인 OEM 서비스를 제공하여 고객이 구성, 치수 및 표면 특성을 포함한 정확한 사양에 맞게 맞춤화할 수 있도록 합니다. 우리의 헌신적인 전문가 그룹은 고객과 긴밀하게 협력하여 고객의 새로운 전제 조건 및 응용 요구 사항을 충족하는 맞춤형 배열을 육성합니다.

FAQ :

Q: 어떤 순도 수준을 사용할 수 있습니까? 

A: 다양한 순도 수준으로 제공되며 일반적으로 하이테크 응용 분야의 엄격한 요구 사항을 충족하기 위해 순도 99.95%를 초과합니다.

Q: 특정 치수로 맞춤 설정할 수 있나요? 

A: 예, 우리는 고객이 특정 증착 시스템 및 프로세스 요구 사항에 맞게 치수, 모양 및 구성을 지정할 수 있도록 맞춤화 서비스를 제공합니다.

Q: 모든 스퍼터링 기술과 호환됩니까? 

A: DC 마그네트론 스퍼터링, RF 스퍼터링, 펄스 DC 스퍼터링 등 다양한 스퍼터링 기술과 호환되므로 다양한 증착 방법과 장비 플랫폼에 걸쳐 다양성을 제공합니다.

기본 제품 매개변수 표준:

매개 변수스탠다드
청정≥ 99.95의 %
입자 크기100미크론 이하
크기사용자 정의
표면 처리라 ≤0.8μm
밀도≥18.5g/cm³
녹는 점3422 ° C
열 전도성174W/m·K

연락처 정보 :

문의사항이나 주문은 다음 주소로 문의해 주세요. betty@hx-raremetals.com

결론 :

텅스텐 타겟 간단한 필름 증언 프로세스의 기본 부분을 다루며 다양한 범위의 최첨단 응용 프로그램에 걸쳐 놀라운 강인함, 무결함 및 실행을 제공합니다. 품질, 맞춤화 및 소비자 충성도에 대한 의무를 바탕으로 우리는 귀하의 텅스텐 목표 요구 사항을 충족시키는 데 있어 귀하의 믿음직한 동반자가 되기 위해 노력합니다.

제품명 : 텅스텐 타겟

크기: 맞춤형

순도:≥99.95%

신청: 그들은 주로 항공 우주, 희토류 제련, 전기 광원, 화학 장비, 의료 장비, 야금 기계, 제련 장비, 석유 및 기타 분야에서 사용됩니다.

물리적 특성 :

밀도 : 19.3g / cm3

녹는점: 3410±20°C

끓는점 : 5927 ° C

표면: 지상 또는 부식성 세척

장점:핀전자 입자, 균일한 구조, 고밀도

우리는 다음을 제공할 수 있습니다:

고순도 텅스텐 타겟 99.95, 99.999

고순도 몰리브덴 타겟 99.95, 99.99

고순도 탄탈륨 타겟 99.95, 99.99

고순도 니오브 타겟 99.95, 99.99

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