초고순도 재료 텅스텐 합금 스퍼터링 타겟

텅스텐 타겟의 기본 정보

제품명 : 텅스텐 타겟

크기: 요청에 따라

표면: 밝고 깨끗함

모양:둥근 디스크, 시트...

학년:W1

표준:ASTM B760

순도 : ≥99.95 %

밀도 : 19.2g / cm³

융해점:3410+/-20℃

비점:

응용 프로그램:진공 코팅

텅스텐 타겟에 대한 가장 중요한 점

(1) 필름의 순도가 높아야 한다.

(2) 필름 두께는 상대적으로 균일해야 합니다.

(3) 증착률. 증착 속도를 적절하게 높이면 스퍼터링 속도도 증가합니다.

(4) 스퍼터링 가스의 선택. 스퍼터링 가스로는 일반적으로 아르곤 가스가 선택됩니다.

(5) 스퍼터링 전압 및 기판 전위. 기판을 매달 수 없습니다.

(6) 기판의 온도. 과도한 온도는 필름의 구조에 영향을 미칩니다.

(7) 텅스텐 타겟의 순도. 텅스텐 타겟 표면의 산화물과 불순물은 필름의 순도를 오염시킵니다.

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